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Studio degli errori geometrici di un interferometro ottico subnanometrico

Il lavoro di tesi è stato svolto durante lo stage presso l'istituto nazionale di metrologia in cui si misura il parametro reticolare del silicio tramite un interferometro combinato x-ottico.
Il problema da affrontare era misurare l'errore geometrico sull' interferometro ottico in seguito a un disallineamento delle parti.
Lo si è fatto costruendo ad hoc un autocollimatore elettronico, sensibile alla rotazione del fascio laser.
La progettazione ottica si è sviluppata con il ray tracing tramite Zemax.

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m m Δ 8 10 5 − ⋅ 8 10 2 − ⋅ Ridefinizione del kilogrammo tramite la costante di Avogadro 3 a M n NA ⋅ ⋅ = ρ Numero di atomi per cella Massa molare densità Passo reticolare CONFRONTO CON I CAMPIONI PRIMARI Concessione di:Physikalisch-Technische Bundesanstalt

Laurea liv.I

Facoltà: Scienze Matematiche, Fisiche e Naturali

Autore: Stefano Paracchino Contatta »

Composta da 20 pagine.

 

Questa tesi ha raggiunto 134 click dal 20/03/2014.

Disponibile in PDF, la consultazione è esclusivamente in formato digitale.