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Deposizione via plasma di film sottili con proprietà acido-base variabili

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fino al 20%. Essi hanno effettuato una titolazione mediante angolo di contatto: all’aumentare della percentuale di AA introdotta nella scarica il salto al punto di flesso della curva di titolazione diminuisce in altezza, indicando una diminuzione del grado di ionizzabilità dei gruppi carbossilici presenti sul film; il tutto è dovuto, probabilmente, ad un aumento di legami idrogeno intramolecolari sulla superficie per l’aumento della concentrazione delle funzionalità carbossiliche [36]. 1.2.2 PE-CVD DI GRUPPI AZOTATI : DEPOSIZIONE DI FILM DA VAPORI DI AAm La funzionalizzazione via plasma con gruppi amminici di diverse superfici polimeriche, oltre che mediante grafting di gruppi funzionali, può essere realizzata mediante la deposizione via plasma di monomeri organici contenti tali gruppi. L’uso di monomeri insaturi come l’allilammina è vantaggioso a confronto con quelli saturi, come la propargilammina, poiché è necessaria una minore quantità di energia per attivare le molecole, quindi la deposizione, e, come conseguenza, si può avere ritenzione di funzionalità amminiche in alta densità [37]. Gancarz et al. [38] hanno paragonato la deposizione di film da vapori di allilammina con quelli della n-butilammina; i risultati XPS hanno mostrato come il rapporto N/C sia nettamente superiore con l’allilammina (0.27), contro 0.07, a parità di condizioni sperimentali. Inoltre, usando l’allilammina, dalla deconvoluzione del picco C1s, la percentuale della componente amminica (-CH 2 -NH 2 ) risulta fino a tre volte superiore rispetto all’ n-butilammina. Analisi FT-IR di coating di AAm ottenuti a diverse potenze hanno mostrato, all’aumentare della potenza, l’aumento dello stretching del -C≡N, indice di elevata frammentazione del monomero in fase plasma e di una conseguente elevata reticolazione del film. E’ stata, quindi, ipotizzata a potenze elevate la conversione delle ammine primarie (-NH 2 ) presenti nel monomero ad immine (-CH=NH) e nitrili (C≡N); inoltre, l’aumento della potenza nel plasma sembra far aumentare nel coating la densità del gruppo nitrile (C≡N) in relazione a quello imminico (- CH=NH) [39,40, 41]. 14
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Deposizione via plasma di film sottili con proprietà acido-base variabili

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Informazioni tesi

  Autore: Elena Dilonardo
  Tipo: Tesi di Laurea
  Anno: 2005-06
  Università: Università degli Studi di Bari
  Facoltà: Scienze Matematiche, Fisiche e Naturali
  Corso: Chimica
  Relatore: Pietro Favia
  Lingua: Italiano
  Num. pagine: 119

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Parole chiave

acido acrilico
allilammina
biomateriali
deposizione via plasma
energia superficiale
film sottili
polimeri biocompatibili
proprietà acido-base
titolazione
wca

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