Assegno di ricerca, CNR

Studio dell'elettromigrazione in linee metalliche integrate realizzate con tecnologia Cu-damascene

E' indetta una selezione per n.1 assegno di collaborazione annuale ad attività di ricerca sul tema:
''Studio dell'elettromigrazione in linee metalliche integrate realizzate con tecnologia Cu-damascene'', presso l'Istituto per la Microelettronica e Microsistemi (IMM) di Bologna. Titolo richiesto: Laurea in Ingegneria Elettronica; requisiti: documentata esperienza nel settore della microelettronica e dell’affidabilità dei dispositivi elettronici, con particolare attenzione allo studio del fenomeno di elettromigrazione in piste metalliche integrate submicrometriche. L'importo è di € 16.138.

Scade il: 11 ottobre 2004

Per ulteriori informazioni: CNR

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