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Deposizione via plasma di film sottili con proprietà acido-base variabili

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1.2 FUNZIONALIZZAZIONE DI SUPERFICI CON GRUPPI OSSIGENATI ED AZOTATI I processi plasmo-chimici garantiscono un attento controllo nella funzionalizzazione delle superfici, non alterano le proprietà massive del materiale e garantiscono un basso impatto ambientale essendo tecnologie “a secco” e senza uso di solventi. Nei paragrafi seguenti sono descritti alcuni dei processi generalmente utilizzati per l’innesto via plasma di gruppi funzionali alle superfici, focalizzando maggiore attenzione alla trattazione di superfici contenenti gruppi ossigenati ed azotati. In particolare, saranno descritti i processi di deposizione da vapori di acido acrilico e/o allilammina per generare superfici a densità di gruppi funzionali, carattere idrofilo e acido/base controllati. 1.2.1 PE-CVD DI GRUPPI OSSIGENATI: DEPOSIZIONE DI FILM DA VAPORI DI AA La deposizione via plasma di film contenenti gruppi ossigenati contribuisce a rendere le superfici dei materiali adatte alla coltura cellulare, sebbene la relazione tra la distribuzione e la densità delle funzioni ossigenate e l’affinità superficiale per le cellule non è ancora molto chiara. Sperimentalmente si è visto che è possibile funzionalizzare le superfici con gruppi ossigenati attraverso processi PE-CVD, tra l’altro, da vapori di alcol allilico [26], acetone, metanolo, acido formico[5], idrossimetacrilato(HEMA) [27] e di acido acrilico [28]. In questo lavoro di tesi si è impiegato quest’ultimo monomero perché si è visto che la deposizione di film pdAA (plasma deposited acrylic acid) consente di ottenere, in particolari condizioni sperimentali, film stabili in ambiente acquoso, a densità controllata di gruppi carbossilici, buoni per controllare direttamente la crescita cellulare, e anche come substrato per l’immobilizzazione di biomolecole [29]. Recenti lavori sperimentali mostrano che le funzionalità carbossiliche rivestono un ruolo fondamentale nel promuovere l’adesione aspecifica di linee cellulari [30]. E’ stato, infatti, dimostrato che i gruppi carichi negativamente, come -COO - , sono particolarmente indicati per questa funzione [31]. Tra le linee cellulari testate in questo laboratorio vi sono i 11
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Deposizione via plasma di film sottili con proprietà acido-base variabili

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Informazioni tesi

  Autore: Elena Dilonardo
  Tipo: Tesi di Laurea
  Anno: 2005-06
  Università: Università degli Studi di Bari
  Facoltà: Scienze Matematiche, Fisiche e Naturali
  Corso: Chimica
  Relatore: Pietro Favia
  Lingua: Italiano
  Num. pagine: 119

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Parole chiave

acido acrilico
allilammina
biomateriali
deposizione via plasma
energia superficiale
film sottili
polimeri biocompatibili
proprietà acido-base
titolazione
wca

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